Cuando parecía que la capa de ozono se estaba regenerando a buen ritmo gracias al respetuoso cumplimiento por parte de los firmantes del Protocolo de Montreal de 1987, un descubrimiento de la Agencia Nacional del Espacio estadounidense (NASA, en sus siglas en inglés), ha vuelto a disparar las alertas: la atmósfera terrestre acumula enormes cantidades de un compuesto químico muy agresivo con el ozono cuyo uso fue prohibido por el protocolo hace ya casi tres décadas.

Se trata del tetracloruro de carbono (CCl4), que antaño se empleaba en las fórmulas de productos de limpieza de textiles en seco o en los albergados por los extintores. Prohibido en Montreal, entre 2007 y 2012 las partes firmantes declararon que habían realizado cero emisiones del mismo.

Era utilizado en las fórmulas de productos de limpieza de textiles y en extintores

Ahora, según anunció la agencia hace unas semanas, los investigadores de la NASA han detectado la emisión a la atmósfera de al menos 39 kilotones al año (un kilotón es una unidad de masa que equivale a 1.000 toneladas), lo que supondría un tercio de la media más alta de emisiones de esta sustancia que se realizaban antes de su prohibición.

En 2008, el tetracloruro de carbono representaba el 11% del total de los compuestos clorados que intervenían en la destrucción de la capa de ozono. Pese a que la concentración de este compuesto no es lo suficientemente alta para revertir el lento proceso de restauración de la capa de ozono, los expertos se muestran preocupados por el hecho de que haya nuevas fuentes de emisión de gases nocivos desconocidas.

“Se supone que esto no es lo que deberíamos estar viendo”, señala el investigador Qing Liang, principal responsable de estudio que ha revelado la presencia del CCl4 en la atmósfera, un experto en temas atmosféricos del Centro de Vuelos Espaciales Goddard de la NASA en Greenbelt, (Maryland, Estados Unidos).

En su opinión, sólo hay tres posibles explicaciones al fenómeno: o hay fugas en alguna actividad industrial, o emisiones desde lugares fuertemente contaminados con el compuesto, o procesos de emisión física de tetracloruro de carbono desde tierra firme o desde los océanos “que no entendemos”.

Cuatro gases más

Con cero emisiones notificadas de CCl4 entre 2007 y 2012, la concentración de este gas en la atmósfera debería haberse ido reduciendo a un ritmo de un 4% anual, pero durante la última década sólo lo ha estado haciendo a un ritmo del 1%. “O hay un proceso que no entendemos, o hay fuentes de emisión no denunciadas o no identificadas”, sentencia Qing Liang.

Esta inquietante investigación se publicó en la revista Geophysical Research Letters apenas un mes antes de la celebración, hoy, del Día Internacional para la Preservación de la Capa de Ozono, impulsada por el Programa de las Naciones Unidas para el Medio Ambiente (UNEP, en sus siglas en inglés), y en un momento en que reinaba un cierto optimismo alrededor del problema ambiental que parece haber afrontado con mayor realismo y seriedad la comunidad internacional.

Se desconoce el origen de las nuevas sustancias que dañan la capa protectora

Aunque, gracias a la eliminación del uso de los gases CFC aprobada en Montreal, globalmente se recupera, aunque sea a un ritmo más lento de lo esperado, no dejan de descubrirse nuevas amenazas para la capa que nos protege de las radiaciones más peligrosas del Sol. Hace unos meses, expertos británicos detectaron en burbujas de aire sin contaminar capturadas en diversos puntos del planeta, como Tasmania o Groenlandia, cuatro nuevos gases que la dañan.

Aunque sus concentraciones en la estratosfera todavía no son elevadas (unas 74.000 toneladas hasta 2012, cuando los CFC llegaron a alcanzar en los años de la década de 1980 el millón de toneladas cada año), el problema, como en el caso del CCl4, es que su origen es desconocido.

“No sabemos desde dónde se están emitiendo, y debería ser investigado”, señala Johnannes Laube, de la Universidad de East Anglia (Reino Unido), principal responsable del trabajo, quien dirige sus sospechas hacia productos químicos para la producción de insecticidas o disolventes para la limpieza de componentes electrónicos.